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微束斑X射线源发射系统的数值计算
EMITTING SYSTEM IN X-RAY SOURCE WITH MICRO-BEAM

作  者: ; ; ;

机构地区: 中国科学院西安光学精密机械研究所

出  处: 《光子学报》 2001年第1期62-66,共5页

摘  要: 本文采用边界元法 (BEM)对高亮度微束斑 X射线源的 L a B6阴极、Wehnet栅极和阳极等发射系统的电位和场强分布进行了数值计算 ,首先计算了系统对称轴上的电位 ,再利用三次样条插值法和谢赫尔公式等计算了系统在考虑三次相差情况下的傍轴电场强度分布 . The Emitting system which is consist LaB 6 cathed,grid and anode is very vital for the study of X ray source with micro beam.The axial protential of emiting system has been calculated by boundary element method (BEM) and the whole eletricifield done by cubic spline interpolation,finially,the eletron trajectory was traced by Runge Kutta method.

关 键 词: 微束班 射线源 边界元法 阴极 栅级 发射系统 数值计算

领  域: [机械工程] [理学] [理学]

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