作　　者： ; ;

机构地区： 广东工业大学机电工程学院机械设计系

出　　处： 《材料科学与工程》 2000年第3期31-34,共4页

摘　　要： 采用 Ti/ Mo复合靶 ,用多弧离子镀技术沉积了 Ti-Mo-N多元多层膜 ,并对其组织结构与性能进行了研究。结果表明 :在本试验条件下多元膜的结构形式为 (Ti,Mo) 2 N,最佳多层膜的结构形式为基体 / Ti/ Ti N/ (Tiy Mo1-y) N/ (Ti,Mo) 2 N,并具有较高的显微硬度、耐磨性和极低的孔隙率 ,在 80 0℃具有很好的抗氧化性能。在沉积过程中存在着多元合金膜层与复合靶的成分离析现象 ,这与靶材的结构有关。 Multi Element Layer Ti Mo N Films were deposited by multi arc ion plating using the Ti/Mo composite as the cathode target. The microstructure and properties of the films were studied. The results showed that the multi element films consisted of (Ti, Mo) 2N mainly, and the best form of multi layer was the matrix/Ti/TiN/(Ti x Mo 1-x )N/(Ti,Mo) 2N,with low porosity, high micro hardness, high wear resistance and excellent oxidation resistance at 800℃. The composition demixing phenomena between the films and the composite target was analyzed.

关 键 词： 多弧离子镀 多元膜 多层膜 组织 性能

领　　域： [一般工业技术] [理学] [理学]