可检索词： （英文）题名=T 作者=A 关键词=K 摘要=R 机构=O 主题=S 刊名=M 分类号=N
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机构地区： 中国科学院兰州物理研究所
出 处： 《真空与低温》 1990年第2期7-10,共4页
摘 要： 从理论和实验上深入研究了反应直流磁控溅射放电的电流-电压特性。指出,利用此特性可以判别反应直流磁控溅射过程中靶面状态的变化,从而达到稳定成膜工艺的目的。最后根据结果给出了几点实验结论。
关 键 词： 真空镀膜 溅射 电压 电流 直流磁控
领 域： [电子电信]
