作　　者： ; ; ; ; ;

机构地区： 乐山师范学院物理与电子工程学院

出　　处： 《光学学报》 2011年第12期230-234,共5页

摘　　要： 利用表面等离子体激元(SPP)的局域能量增强效应可提高现有光学光刻的分辨率。背向曝光SPP干涉光刻技术可以大面积制备低成本的纳米周期性结构。理论分析了SPP在背向曝光系统中的共振透射特性,提出了背向曝光SPP干涉光刻系统核心元件———银层超透镜的优化设计方法,并利用时域有限差分法和理论解析式模拟计算了背向曝光SPP干涉光场分布,通过优化设计银层超透镜厚度和共振角,实验获得了较好的周期性光刻线条。 Photolithography resolution could be enhanced by the local enhancement effects of surface plasmon polaritons （SPP）. Large-area periodic nanostructures could be fabricated by backside exposure SPP interference lithography. Resonance transmission of SPP in backside exposure system is analyzed, an optimum design method is proposed for silver superlens, and the intensity distribution of SPP interference lithography is simulated by finite difference time domain （FDTD） method and theoretic formulas. With optimum design of superlens thickness and resonance angle, a periodic silt array is obtained with better quality in laboratory.

关 键 词： 表面光学 表面等离波子激元干涉光刻 背向曝光 银层超透镜

领　　域： [机械工程] [理学] [理学]