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文献详细Journal detailed

A位掺杂Bi_4Ti_3O_(12)薄膜的制备及铁电性能研究
PREPARATION AND RESEARCH OF FERROELECTRIC PROPERTY OF THE THIN FILMS OF A-SITE SUBSTITUTION OF Bi_4Ti_3O_(12)

作  者: ; ; ; (李佳);

机构地区: 长春工程学院

出  处: 《中国陶瓷》 2010年第12期12-14,共3页

摘  要: 采用溶胶-凝胶法制A位掺杂Bi4Ti3O12(BTO)的铁电薄膜Bi3.25La0.75Ti3O12(BLT)、Bi3.15Nd0.85Ti3O12(BNT)及Bi3.15(La0.5Nd0.5)0.85Ti3O12(BLNT);XRD结果表明制备的薄膜具有(117)和(00l)的混合取向;在10V电压下,BLT、BLNT和BNT薄膜的Pr分别为13.14μC/cm2、20.65μC/cm2和21.23μC/cm2;FE-SEM显示BNT薄膜表面光滑致密,颗粒均匀,薄膜厚度约为300nm。 Ferroelectric thin films Bi3.25La0.75Ti3O12(BLT)、Bi3.15Nd0.85Ti3O12(BNT) and Bi3.15(La0.5Nd0.5)0.85Ti3O12(BLNT) of A-site substitution of Bi4Ti3O12 was fabricated by sol-gel method in the paper. X-ray diffraction pattern showed the prepared thin films exhibited a highly random orientation with predominantly (117) and (001) orientation. The PBrB value of BLT, BLNT and BNT were respectively 13.14μC/cm^2, 20.65μC/cm^2 and 21.23μC/cm^2 at the voltage of 10V. FE-SEM showed that the BNT thin film had a dense and homogeneous microstructure without any crack. The BNT thin film thickness is about 300nm.

关 键 词: 溶胶 凝胶 铁电薄膜 极化值

领  域: [电气工程] [一般工业技术]

相关作者

作者 陈志锋
作者 江俊勤

相关机构对象

机构 暨南大学
机构 华南师范大学物理与电信工程学院物理系
机构 华南理工大学
机构 华南理工大学材料科学与工程学院
机构 嘉应学院

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