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文献详细Journal detailed

多重全息存储中曝光均匀性的研究
Study on uniformity exposure in multiplex holographic storage

作  者: ; ; ; ; ;

机构地区: 中国科学院西安光学精密机械研究所

出  处: 《激光杂志》 1999年第3期23-26,共4页

摘  要: 本文分析了光折变晶体多重全息存储中扇形效应对光栅写入时间常数的影响和写入光耦合对光栅振幅的影响,给出了两种因素影响下角度编码多重全息存储中时间递减曝光法的计算公式和方法,该计算公式和通常的有所不同。数值计算结果表明,按照这种计算方法所得多重存储中各幅全息光栅振幅不仅均匀性好,而且振幅也相对较大,这种曝光方法有利于提高晶体的存储容量。 The influence of scattering effects on recording time constant has been analyzed in holographic storage in photorefractive crystal and so does the influence of light beam couple on grating amplitude.The formula and method to calculate the exposure time for multiplexed storage with the incremental recording technique have been presented.The calculated results have shown that the uniform and great grating can be obtained using the formula and method,accurate exposure time is one of the key to increase amount of storage.

关 键 词: 时间递减法 多重全息存储 扇形效应 曝光均匀性

领  域: [自动化与计算机技术] [自动化与计算机技术]

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