作　　者： ; ; ; (董克君）; (何明）; (姜山）; (李振宇）; (王祥高）; (李朝历）; (武绍勇）; (沈洪涛）; (贺国珠）; (游曲波）; (包轶文）; (龚杰）; (陆丽燕）; (王伟）; (胡跃明）; (袁坚）;

机构地区： 不详

出　　处： 《中国原子能科学研究院年报》 2009年第1期271-271,共1页

摘　　要： 实验采用系列相关化合物对182Hf加速器质谱（AMS）测量中主要干扰182W的离子源干扰引出形式进行了系统、全面的调查。结果表明：182Hf的AMS测量中，182W干扰来源有多种，182WF5只是其中的一部分，更多的是与O、Br、Cu、N等元素的相关同位素结合成与182H行5质量数相同而产生的干扰。所以，降低HfF4样品中O、Br、Cu、N等元素含量是降低182Hf探测限的关键。

关 键 词： 干扰来源 加速器质谱 质谱测量 元素含量 相关化合物 离子源 质量数

领　　域： [核科学技术]