作　　者： ; ;

机构地区： 天津大学理学院物理系

出　　处： 《中国科学（A辑）》 1996年第12期1131-1137,共7页

摘　　要： 用透射电子显微镜(TEM)和Raman散射(RS)研究了对向靶溅射法制备的Co/C软X射线多层膜在退火条件下碳的结构变化.结果表明,碳层的结构变化可大致分为三个阶段,即有序化,结晶以及晶粒生长阶段。在退火温度低于400℃时的有序化阶段,非晶碳层中键角无序的三配位键和四配位键转变为理想的三配位键。在结晶阶段,非晶碳层在500～600℃的退火温度下结晶成为石墨微晶。在晶粒生长阶段,样品在700℃以上温度退火,石墨微晶尺寸增大,与TEM分析结果相一致。

关 键 词： 薄膜 软 射线 多层膜 退火 石墨化 散射谱

领　　域： [理学] [理学]