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多量子阱中注入载流子的非均匀分布
Non-Uniform Distribution of Injected Carriers in Multiple Quantum Wells

作  者: ; ; ; ;

机构地区: 深圳大学光电子学研究所光电子器件与系统教育部重点实验室

出  处: 《光子学报》 2006年第9期1313-1316,共4页

摘  要: 根据多量子阱中注入载流子的输运机制,计算了多量子阱中注入载流子的非均匀分布.引入不均匀度参量Asy来衡量载流子分布的不均匀程度,分析了各种敏感因素对载流子非均匀分布的影响.指出注入载流子分布的非均匀性,随量子阱数、注入电流、量子垒高度的增加而显著增加,随工作温度的升高而减小. Based on the injected carrier transportation mechanisms in multiple quantum wells (MQW), non-uniform distribution of injected carriers in MQW was computed numerically. And several parameters, which significantly affect the carrier non-uniform distribution in MQW, were investigated. Results show that with the increase of the number of quantum wells, injected current and quantum barrier height increases the non-uniformity of carrier distribution in MQW,but with the decrease of working temperature it will also decrease.

关 键 词: 半导体器件与技术 多量子阱 注入载流子 非均匀分布

领  域: [电子电信]

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