作　　者： ; ; ; ; ;

机构地区： 北京科技大学材料科学与工程学院材料物理与化学系

出　　处： 《真空科学与技术》 1995年第4期288-290,共3页

摘　　要： 用磁控溅射技术制备了周期性良好的Fe－N／Ti-N纳米多层膜。Ti-N单层的厚度固定为3nm，Fe－N单层的厚度在2．5～11nm之间变化。用振动样品磁强计研究了样品的磁性，用X射线衍射研究了样品的结构。发现在Fe－N层较薄的样品中，饱和磁化强度明显提高，而矫顽力在所有样品中基本相同。

关 键 词： 纳米多层膜 磁控溅射 磁性材料

领　　域： [理学] [理学] [电气工程] [一般工业技术]