作　　者： ; ; ; ; ; ;

机构地区： 北京科技大学材料科学与工程学院材料物理与化学系

出　　处： 《金属功能材料》 1995年第4期142-146,共5页

摘　　要： 用磁控溅射技术成功的制备了Ｆｅ－Ｎ／Ｔｉ－Ｎ纳米多层膜．Ｆｅ－Ｎ层厚度固定为２．２ｎｍ，Ｔｉ－Ｎ层厚度在０．５ｎｍ和４．６ｎｍ之间依次变化．由Ｘ射线衍射结果发现样品中有Ｆｅ１６Ｎ２相存在，发现Ｔｉ－Ｎ层厚度的变化，对剩磁比、饱和外场、矫顽力、饱和磁化强度（ＭＳ）有很大影响，Ｆｅ－Ｎ层之间有铁磁耦合和反铁磁耦合变化．

关 键 词： 多层膜 层间耦合 磁性 薄膜 溅射

领　　域： [理学] [理学]