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文献详细Journal detailed

用于集成超声传感阵列的PVDF-MOSFET新结构
AN IMPROVED PVDF-MOSFET STRUCTURE FOR INTEGRATED ULTRASONIC TRANSDUCER ARRAYS APPLICATIONS

作  者: ; ; ; ; ;

机构地区: 华南理工大学理学院应用物理系

出  处: 《华南理工大学学报(自然科学版)》 1995年第12期9-17,共9页

摘  要: 本文报道了一种用聚酰亚胺(PI)膜垫高扩展栅的聚偏氟乙烯(PVDF)压电膜-MOS晶体管(PEGPOSFET)传感器单元结构。和一般POSFET结构相比,这种新结构大大减少了扩展栅电容(CEG),明显地提高了器件灵敏度。详述了这种结构的制造过程,特别是PI膜制备条件对CEG和器件性能的影响。当用5.2μm和8.7μm的PI膜作为扩展栅电极的绝缘层时,分别得到11.3dB和13.6dB的增益改善。这个结果和等效电路分析结果一致。这种新结构为采用成熟的IC工艺技术制作用于医学超声成象等领域的PVDF超声探测阵列传感器提供了一个崭新的途径。 A newly developed polyimide padded-extended-gate polyvinylidene fluoride MOSFET (PEG-POSFET) for integrated acoustic transducer arrays is investigated. The PEG-POSFET comprises a polyimide (PI) film used as a sl)acer for the extended gate electrode (EGTRO), which reduces the extended gate capacitance (CEG ) significantly and a large improvement in sensitivity compared with conventional POSFET was achieved. The fabrication of PEG-POSFET, especially the effect of the preparation conditions of PI on CEG and the performance of PEG-POSFET are described. Using 5. 2μm and 8. 7μm thick PI films as EGTRO dielectrics,about 11. 3dB and 13. 6dB improvements of sensitivity were obtained respectively, which match the predicted valuesbased on a simple model. These results enable the realization of integrated PVDF ultrasonic detector arrays for medical imaging applications using a low cost IC technology.

关 键 词: 传感器 聚偏氟乙烯 超声传感器 晶体管

领  域: [理学] [理学] [一般工业技术] [电子电信]

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机构 华南理工大学理学院应用物理系

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