作　　者： ; ; ; ; ;

机构地区： 华南农业大学工程学院

出　　处： 《山东陶瓷》 2005年第3期3-5,共3页

摘　　要： 用硅烷和氮气为反应气体,采用ICP等离子体化学气相沉积技术合成氮化硅纳米粉体.用朗缪尔探针诊断了反应室内等离子体参数,得到不同位置、不同功率下等离子体密度的变化规律,等离子体密度随着功率的增大而增大,由于离子鞘层的存在,提供了局部等离子体密度稳定的区域.利用TEM分析了纳米氮化硅的显微形貌,结果表明:纳米氮化硅粉体颗粒为球形,分布于20～40nm. The Si_3N_4 nanopowder was prepared by means of ICPECVD by decomposing of SiH_4 and N_2.The ion density in the reaction chamber was diagnosed by a Langmuir probe.The rules were obtained under different radio frequency power and different position which the ion density increases as the power decreases.Because of the ion sheath,the area emerges where the ion density is symmetrical.Analysis by TEM reveals characteristic of Si_3N_4.The results indicate the particles is spherical with diameters from 20nm to 40nm.

关 键 词： 氮化硅 纳米粉

领　　域： [机械工程] [理学] [理学]