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文献详细Journal detailed

利用光聚合反应制作表面平整的聚合物光栅
Polymer Gratings with Low Surface Relief Based on UV Photo-Polymerization

作  者: ; ; ; ; ;

机构地区: 清华大学信息科学技术学院集成光电子学国家重点实验室

出  处: 《Journal of Semiconductors》 2005年第2期363-367,共5页

摘  要: 提出利用紫外光聚合反应来制作聚合物光栅的方法 .实验发现 ,光栅的表面起伏深度很小 ,约为 12 4~0 7nm ;折射率调制较大 ,达到 0 0 10左右 .这种方法在低阶分布反馈聚合物激光器的制作中具有很好的应用前景 . Polymer gratings are fabricated based on photopolymerization.A very low surface relief depth ranging from 12 4 to about 0 7nm has been demonstrated with a refractive index modulation of about 0 010.Such polymer gratings show promising potentials for the fabrication of low-order distributed feedback polymer lasers.

关 键 词: 光聚合反应 聚合物光栅 分布反馈 聚合物激光器

领  域: [电子电信]

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