可检索词： （英文）题名=T 作者=A 关键词=K 摘要=R 机构=O 主题=S 刊名=M 分类号=N
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机构地区： 中国科学院兰州物理研究所
出 处： 《真空与低温》 1993年第3期135-138,共4页
摘 要： 采用正交试验法对平面直流磁控溅射镀银的工艺条件进行了优化选择,并用优化的工艺条件制备出低吸收率的银膜。通过对一些镀膜工艺参数的考察,给出了几种影响银膜光学性能的重要因素,并对其影响途径提出了合理的解释。
关 键 词： 溅射 镀膜 银 薄膜 真空镀膜
领 域： [电子电信]
