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文献详细Journal detailed

单晶Si表面微观磨损机理的SEM研究
Investigation of the microcosmical wear mechanism of single-crystal Si by SEM

作  者: ; ; ; ; (孙蓉);

机构地区: 中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室

出  处: 《电子显微学报》 2003年第6期516-517,共2页

关 键 词: 单晶 表面微观磨损机理 扫描电子显微镜 硅材料 表面光洁度 集成电路技术

领  域: [理学] [理学] [电子电信]

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机构 华南理工大学理学院应用物理系

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