作　　者： ; ; ; ; ; ;

机构地区： 大连理工大学材料科学与工程学院三束材料改性教育部重点实验室

出　　处： 《金属学报》 2004年第10期1064-1068,共5页

摘　　要： 用Edelberg和Aydil的等离子体鞘层模型,对电弧离子镀中大颗粒在脉冲偏压鞘层中的带电及受力情况进行了分析 和计算,为大颗粒由于带负电而受到电场力排斥从而被净化的实验现象和物理模型提供佐证. Applying the plasma sheath models given by Edlberg and Aydil, the charging effect and forces acting on macroparticles are analyzed and calculated in pulsed-bias arc ion plating, which gives an evidence to the experimental phenomenon and physical model in which macroparticles would be repulsed from electric force and hence are significantly reduced.

关 键 词： 大颗粒 电弧离子镀 脉冲偏压 等离子体鞘层 受力分析

领　　域： [一般工业技术]