作　　者： ; ; ; ; ; ;

机构地区： 重庆邮电大学数理学院

出　　处： 《微细加工技术》 2008年第1期26-30,共5页

摘　　要： 采用直流反应磁控溅射法在玻璃基底上用Zn(99.99%)掺杂Al(1.5%)靶制备出高质量的Al掺杂的ZnO(AZO)薄膜。用X射线光电子能谱仪对退火处理后的薄膜进行了成分和元素的价态分析,并用Van der Pauw方法对样品的电学特性进行了测量。实验结果表明,Zn和Al元素都以氧化态的形式存在,O元素主要是以晶格氧和吸附氧的形式存在。AZO薄膜的电学性质受退火温度和氧氩比的影响较大。随着退火温度的升高,电阻率减小,载流子浓度和迁移率增大。随着氧氩比的增大,电阻率增大,迁移率减小。因此可得到用直流反应磁控溅射法制备AZO薄膜的最佳氧氩比和退火温度分别为0.3/27和400℃,在此条件下制备出的薄膜电阻率可低至10-4Ω.cm,载流子浓度可达1020cm-3。 High quality Al doped ZnO(AZO) thin films were deposited on glass substrates by direct current(DC) reactive sputtering using a Zn target(99.99%) containing Al of 1.5%.The compositional and element valence state analysis of the annealed AZO thin films have been investigated by X-ray photoelectron spectroscopy(XPS).The electrical properties of AZO thin films have been measured by Van der Pauw method.The experiment results show that Zn and Al atoms lie in the oxidized state,O atoms mainly lie in the crystal la...

关 键 词： 薄膜 谱 电学性质

领　　域： [电子电信]